相移掩模技术

投影掩模版被一层附加透明层修正以便改变透光区域使光相移180度的技术被称为相移掩模技术。1相移掩模技术(PSM)是1982年发展起来的方法,用来克服光

相移掩模是同时利用光线的强度和相位来成像,得到更高分辨率的一种分辨率增强技术。相移掩模(Phase Shift Mask, PSM)是同时利用光线的强度和相位来成像,得到更高分辨率的一种分辨率增强技术。相移掩模是一项通过改变光束相位来提高光刻

极紫外相移掩模是光刻技术术语,指应用于极紫外光刻技术中的相移掩模。其基本原理是调节掩模上吸收层的光学参数(n、k、 d),使得吸收层具有一定的反射率。吸收层处反射光电场矢量与相邻区域反射光矢量的相位差是180°,图形边缘区域

交替型相移掩模是相移掩模的一种,也被称为Levenson PSM。定义 在具有一定周期性的铬掩模版中,透光图形之间相间地制备一层光的位相器(即交替的在掩模版透明区域增加或减少一层透明膜,光透过移相器后会产生180度相移)原理 在曝光

光掩模制作技术大体上可分为传统的刻图缩微制版技术系统、计算机辅助设计、光学图形发生器自动制版技术系统和以电子束扫描成像为代表的各种短波长射线成像曝光技术系统。 刻图缩微制版技术系统 最初是从印刷工业中的印刷制版技术移植到微

相关掩模技术,是指利用遥感影像拷贝产生的许多彼此能精确重叠的正负片,通过不同组合及相互叠掩的方法,进行影像反差调整、边缘增强等摄影处理的技术。中文名 相关掩模技术 采用技术 遥感影像拷贝 效果 许多彼此能精确重叠的正负片 处理

用以制作模片的原始影像胶片称为母片,它们可以是覆盖同一一地区的不同谱段、不同时相或不同传感器的影像,由于这些模片具有空间相关性,故称为相关掩模。相关掩模技术在遥感图像增强中曾起到一定的作用。

近年来为了提高曝光分辨率,开发出了相移掩模和光学邻近效应校正掩模。这些掩模的制造工艺比传统掩模复杂得多。三重金属掩模:在金属膜或金属片表面上的某些区域被第二层抗蚀金属保护,而第二层金属本身的某些区域又被第三层抗蚀金属所

掩模设计的古老秘密/180 第9章 封装/183 内容提要/183 引言/183 压焊方法/184 超声楔形压焊/185 超声球形压焊/186 倒装芯片技术/186 多层封装/187 封装中的问题/188 总体外貌/189 45度规则/189 使硅的重叠最小/191 导线长度/

全息掩模技术 全息掩模技术(holographic mask technology)是1993年公布的电子学名词。公布时间 1993年,经全国科学技术名词审定委员会审定发布。出处 《电子学名词》第一版。

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